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等離子化學(xué)氣相沉積-PECVD,為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積法。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區(qū)管式爐、三通道質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款設(shè)備用于生長納米線、石墨烯或SIC薄膜等
服務(wù)熱線:18119588884